共谋校企合作与科研创新——1929cc威尼斯召开磁控溅射设备论证会

为深化校企合作，推动学校应用型人才培养，深入探讨磁控溅射设备的前沿技术，探索凝聚态物理团队与企业合作新模式，5月30日，1929cc威尼斯在二号实验楼B216会议室成功举办“磁控溅射设备论证会”。学校党委副书记、校长郑秀文出席会议并讲话。

齐鲁工业大学教授教授欧阳俊、山东建筑大学教授于洪文、临沂华晶电子有限公司董事长孟凡茂、京东方科技集团股份有限公司工程师林博、山东三齐能源有限公司总经理于春锋等出席论证会。会议由物理与电子工程学院院长张洁主持。

会上，郑秀文代表学校对到场的专家学者表示热烈欢迎，并对学校的办学规模、学科特色、专业发展、培养体系、教学宗旨等作了全面介绍，进一步讲述了学校在人才引进、科研成果等方面取得的显著成就。郑秀文表示，学校将充分发挥自身优势，进一步推动特色学科的深入发展，夯实科技自立自强的根基，为科技创新和社会进步贡献更大力量，并强调产教融合是校企合作发展的必由之路，校企合作是学校发展的需要，更是企业发展的需要，通过合作，学校和企业可以优势互补、资源共享，在校企之间构建一个集人才培养、科研探索、文化交流于一体的综合性平台。

物理与电子工程学院副教授闫静对磁控溅射设备的整体情况、工作原理、设备明细以及日常维护费用等方面进行了详尽的阐述。欧阳俊则深入剖析了磁控溅射技术的原理、特点以及在不同领域的应用，强调了该技术在薄膜制备领域的独特优势，如设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等。特别是在制备功能性薄膜、装饰膜以及微电子和光学领域，磁控溅射技术展现出广阔的应用前景。同时专家们高度评价了学校的学生素质和实践能力，并表示愿意与学校共同探索产学合作的新道路，以高素质人才助力学校和企业高速发展。

在讨论环节，与会专家围绕磁控溅射技术的创新点、挑战与机遇展开了热烈的讨论。专家们一致认为，虽然磁控溅射技术在提高薄膜质量、加工精度以及制备多层结构薄膜等方面取得了显著进步，但仍面临着工艺复杂、受限于工艺条件以及不能处理大面积薄膜等挑战。针对这些问题，专家们提出了宝贵的建议和意见，为磁控溅射技术的未来发展指明了方向。

本次论证会还就物理与电子工程学院未来实验室建设发展进行了深入交流。与会代表们就实验室目前研究项目方向进展、设备建设管理、未来合作方向以及存在的问题和困难等方面进行了热烈讨论，并提出了许多建设性意见和建议。这些意见和建议将有助于推动学院实验室建设的持续发展，提升学院的科研水平和创新能力。

本次会议落实了党的二十大报告作出“加快实现高水平科技自立自强”的重大部署，坚定了“加强企业主导的产学研深度融合”的目标要求，确定了校企合作着力点，推进以企业为主导的产学研深度融合，踏出实现高水平科技自立自强的铿锵步伐。未来，学校将继续关注磁控溅射技术的最新动态，立足发展定位，整合学科资源优势，积极服务国家战略，为磁控溅射技术的未来发展注入新的动力，助力科技强国建设。

学校合作发展办公室主任刘勇，物理与电子工程学院副院长王辉，凝聚态物理团队负责人步红霞教授以及袁慧敏、王文静、闫静三位副教授共同参会。

摄影：物理与电子工程学院

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终审：孙磊